化学铜
MS-KAPA EC-05M
开缸用
开缸用 : A : 75, B :100, C : 25
特征
纤维电镀用，EMI屏蔽用等，兼容性镀铜PROCESS.EDTA类型 作业性，经济性 优秀
作业条件
铜浓度(㎖)
2.5
温度(℃)
45
浴负荷
1.5
析出速度(μm)
（30分）0.8-1.2
MS-KAPA MC-100
开缸用
开缸用 : MC-100, M : 100 / MC-100, S : 3
特征
纤维电镀用，EMI屏蔽用等，兼容性镀铜PROCESS.
作业条件
铜浓度(㎖)
2.8
温度(℃)
46
浴负荷
-
析出速度(μm)
(10分) 1-1.6
MS-KAPA PC-75M
开缸用
开缸用 : A :75, B :75, C :75, D :20
特征
Through hole用低速类的化学镀铜PROCESS
作业条件
铜浓度(㎖)
2.3
温度(°C)
25
浴负荷
-
析出速度(μm)
(20分) 0.3-0.2
MS-KAPA MS-56M
开缸用
开缸用 : A :75, B :46, C :2.5, D :2
特征
亮粉色皮膜 / 最佳PATTERN 电镀浴 / 纤维电镀用，EMI SHIELD用等兼容性镀铜PROCESS / 氯化铜类高速电镀液
作业条件
铜浓度(㎖)
2.8
温度(°C)
46
浴负荷
-
析出速度(μm)
(10分) 1.6